إنتل تعرض أول رقاقة منتجة بتقنية 32 نانومتر في العالم

[ما بعرف]

عرض الرئيس التنفيذي لشركة إنتل (بول أوتيلليني) حديثاً منتجات الشركة الجديدة وتصاميم الرقاقات وتقنيات التصنيع التي ستمكِّن الشركة من مواصلة مسيرتها السريعة في تقديم المنتجات والتقنيات.

وخلال كلمته الموجهة لقادة صناعة الإلكترونيات وتقنية المعلومات والمطورين والمراقبين خلال منتدى مطوِّري إنتل(IDF) في سان فرانسيسكو في الولايات المتحدة، عرض أوتيلليني أول رقاقة عاملة في الصناعة تم بناؤها باستخدام تقنية التصنيع 32 نانومتر، وهي تستخدم ترانزيستورات متناهية الصغر بحيث يمكن وضع 4 ملايين ترانزيستور في مساحة لا تتجاوز النقطة الموجودة في نهاية هذه الجملة.

ومن المقرر أن تبدأ إنتل الإنتاج باستخدام تقنية التصنيع 32 نانومتر في العام 2009 حسب المخطط.

كما شرح أوتيلليني أيضاً الفوائد التي ستعود على مستخدمي الحواسيب على المدى القصير من عائلة المعالجات (بنراين) المقبلة ذات تقنية التصنيع 45 نانومتر، والتي ترتكز إلى تقنية ترانزيستورات البوابة المعدنية ذات معامل العزل الكهربائي العالي والتي طورتها إنتل.

وستقوم إنتل بتوفير أوائل المعالجات المبنية بتقنية 45 نانومتر في الصناعة في نوفمبر المقبل. كما عرضت الشركة أيضاً وللمرة الأولى الجيل الجديد من معمارية الرقاقات التي تحمل الاسم الرمزي نيهالم، والتي من المقرر أن يتم طرحها العام المقبل.

وقال أوتيلليني: (إن إستراتيجية التناوب بين المعمارية الجديدة للمعالجات وتقنيات تصنيع السيليكون كل سنة، تسرِّع من وتيرة الابتكار في الصناعة. ويعتبر هذا التناوب المحرك الذي يؤدي لابتكار أحدث التقنيات المتقدمة التي نشهدها اليوم ويحافظ على ظهورها بإيقاع مستمر وسريع. ويمكن لزبائننا ومستخدمي الحواسيب حول العالم الاعتماد على قدرات الابتكار والتصنيع المتوفرة لدى إنتل لتوفير أرقى مستويات الأداء، والتي تتحول بسرعة لتصبح المعيار والاتجاه السائد في الصناعة).

وعندما تقوم إنتل بتقديم بنراين في نوفمبر، فإنه سيكون أول معالج بتقنية 45 نانومتر في الصناعة يتم إنتاجه بكميات تجارية. وسيتمتع بنراين، إلى جانب معالجات 45 نانومتر من عائلة سيلفرثورن (والتي ستتوفر العام المقبل) بحجم صغير واستهلاك منخفض للطاقة وإمكانات أداء عالية، تلبي مجموعة متنوعة وواسعة من احتياجات الحوسبة ابتداء من حواسيب الإنترنت الكفية وحتى الخوادم رفيعة المستوى. وستوظف إنتل هذه التقنية بسرعة، حيث وضعت خططاً لتقديم 15 معالجاً جديداً بتقنية 45 نانومتر خلال العام المقبل تشمل جميع قطاعات السوق، ما يعزز من ريادة إنتل في المنتجات ذات الكفاءة العالية في الأداء واستهلاك الطاقة. وقد أنجزت إنتل بالفعل أكثر من 750 تصميم ناجح للمعالج بنراين.

وقال أوتيلليني: (نتوقع أن تقدم معالجات بنراين زيادة في الأداء تصل إلى 20% مع تحسين كفاءة استهلاك الطاقة أيضاً. وتسمح لنا تقنية التصنيع 45 نانومتر المتطورة جداً بتقديم معالجات منخفضة التكلفة وتستهلك مقداراً منخفضاً جداً من الطاقة يجعلها تلائم الأجهزة المبتكرة ذات عامل الشكل الصغير، مع توفير الأداء العالي الذي تمتاز به المعالجات متعددة النوى ومتعددة المزايا التي تستخدم في أكثر الأنظمة تقدماً).

كما أعلن أوتيلليني أن معالجات إنتل 45 نانومتر وأطقم الرقاقات 65 نانومتر ستستخدم تقنية التغليف الخالية من الهالوجين ابتداء من العام 2008م. ويعني ذلك، إلى جانب التغليف الخالي من الرصاص وتقنية ترانزيستور البوابة المعدنية ذات معامل العزل العالي، أن الجيل المقبل من معالجات إنتل لن تكون فقط أكثر كفاءة في استهلاكها للطاقة وإنما ستكون أفضل للبيئة أيضاً.

وفي إشارة إلى تطلعات الشركة وخططها لعام 2008، عرض أوتيلليني لأول مرة على نطاق عام المعالج نيهالم، وقال إن الشركة تسير وفق الخطة المرسومة لتقديم التصميم الجديد للمعالج في النصف الثاني من السنة.

وستوسع معمارية نيهالم من ريادة إنتل في اختبارات الأداء، والأداء لكل واط، وستمثل أول معالج من إنتل يستخدم معمارية النظام (كويك-باث). وسيضم نظام (كويك-باث) تقنية التحكم المبيت بالذاكرة وروابط محسنة للاتصال بين مكونات النظام، لتحسين الأداء العام للنظام بشكل كبير.